Προϊόντα

Σπίτι > Προϊόντα > Al2O3 κεραμικό > High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Κατηγορίες

κεραμική καρβιδίου του πυριτίου

(33)

Μεταλλωμένη κεραμική

(10)

Επαφές

Επαφές: Miss. Zhu

Τηλεφώνημα: 17351500728

Επικοινωνήστε τώρα

Στείλε μας ένα μήνυμα.

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Name: High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts
Brand: Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
SKU: WS-AL-HP02
Price: 105.00 USD
Availability: InStock

Πληροφορίες για το προϊόν

Τόπος καταγωγής: Jiangsu, Κίνα

Μάρκα: Wuxi Special Ceramic

Πιστοποίηση: ISO 9001:2015

Αριθμό μοντέλου: WS-AL-HP02

Όροι πληρωμής και αποστολής

Ποσότητα παραγγελίας min: 10 τεμάχια

Τιμή: US$10~US$200/Piece

Συσκευασία λεπτομέρειες: Χαρτοκιβώτια εξαγωγικής ποιότητας με ένθετα αφρού, παλετοποιημένα για θαλάσσιες ή αεροπορικές μεταφο

Χρόνος παράδοσης: 15-30 ημέρες μετά την επιβεβαίωση

Όροι πληρωμής: T/T, L/C, Western Union

Δυνατότητα προσφοράς: 100.000 τεμάχια το μήνα

Βρείτε την καλύτερη τιμή

Πληροφορίες για το προϊόν

Περιγραφή του προϊόντος

Επισημαίνω: 
                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                                High Purity Alumina Susceptor, Semiconductor Grade Ceramic Plate, Wafer Processing Equipment Part
                              

Περιεχόμενο αλουμίνας:	99.5% Al2O3	Βαθμός καθαρότητας:	Βαθμός ημιαγωγών
Πυκνότητα:	3,92 g/cm3	Τραχύτητα επιφάνειας:	Ra 0,1-0,4 μμ
Ομαλότητα:	0,02 χιλ.	Χρώμα:	Ελεφαντόδοντο
Εφαρμογή:	εξοπλισμός επεξεργασίας γκοφρετών	ανώτατη θερμοκρασία χρήσης:	1700 βαθμοί Κελσίου
Χαρακτηριστικό:	Χαμηλή ιονική μόλυνση

Περιεχόμενο αλουμίνας:	99.5% Al2O3
Βαθμός καθαρότητας:	Βαθμός ημιαγωγών
Πυκνότητα:	3,92 g/cm3
Τραχύτητα επιφάνειας:	Ra 0,1-0,4 μμ
Ομαλότητα:	0,02 χιλ.
Χρώμα:	Ελεφαντόδοντο
Εφαρμογή:	εξοπλισμός επεξεργασίας γκοφρετών
ανώτατη θερμοκρασία χρήσης:	1700 βαθμοί Κελσίου
Χαρακτηριστικό:	Χαμηλή ιονική μόλυνση

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

Semiconductor wafer processing demands materials that neither shed particles nor leach metallic contamination into the process environment. Our High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates are manufactured from 99.5% alpha alumina with tightly controlled trace element levels, then fired in a clean production line to produce a fully dense, pore-free body that stays chemically silent even under plasma and high bias conditions. Each plate is diamond ground and lapped to a flatness

Tags:

Al2O3 κεραμικό

Steatite κεραμική

Κεραμική νιτριδίων πυριτίου

Κεραμική Zirconia

κεραμική βάρκα εξάτμισης

κεραμική καρβιδίου του πυριτίου

Cordierite κεραμική

Mullite κεραμική

Υπόστρωμα κεραμικής

Κεραμική νιτριδίων βορίου

Κεραμικός άξονας

Κεραμικό ακροφύσιο

Οξείδιο ζιρκονίου κεραμικό

Macor κεραμικό

κεραμική ημιαγωγών

Κεραμική λεπίδα Zirconia

Y2O3 σκόνη

Νιτρίδιο αλουμινίου κεραμικό

Μεταλλωμένη κεραμική

High-Purity Al2O3 Ceramic Susceptor Plates Semiconductor Grade for Wafer Processing Equipment Parts

High Purity Alumina Susceptor

Semiconductor Grade Ceramic Plate

Wafer Processing Equipment Part

Κεραμικό πιάτο αλουμίνας,

Al2o3 κεραμικό πιάτο,

Al2O3 κεραμικό

Steatite κεραμική

Κεραμική νιτριδίων πυριτίου

Κεραμική Zirconia

κεραμική βάρκα εξάτμισης

κεραμική καρβιδίου του πυριτίου

Cordierite κεραμική